化学部

2025年7月19日(土)

サイエンス探究および化学部の３名で東北大学好田研究室を見学しました。

きっかけはサイエンス探究の活動で半導体を合成したいという強い思いから始まりました。しかし高校での実践例はありません。そこで半導体について先進的な研究に取り組んでおられる好田誠先生に、生徒が問い合わせたところ、ご厚意で研究室にご招待いただきました。

午前中は東北大学青葉山キャンパス周辺を散策し、いよいよ午後から研究室の見学です。

今回見学させていただくのは、次世代半導体材料SnS(一硫化スズ)に関する研究です。従来の実験方法ではなく、化学気相成長(CVD)法を見学させていただきました。

大まかに加熱合成に120分、冷却に30分、観察に30分ほどかけての実験です。すべての手順を見せていただきました。また加熱完了までの待ち時間に様々な実験室を案内していただきました。

化学気相成長(CVD)法の実験は、清浄度が管理されているクリーンルームで行われました(写真は合成物質を顕微鏡で観察しています)。

初めは緊張気味の様子でしたが、好田先生の気さくなお人柄もあり、活発に質問することができました。博士研究員の方や学部４年生の方にも、質問や実験室の紹介をいただき、良い刺激になりました。

３連休の初日にもかかわらず、貴重なお時間をいただきありがとうございました。普段見ることができない研究室や実験室を見学・説明いただき、代え難い経験になりました。今後も研究に励んでいきます。

好田先生をはじめ、研究室のみなさまありがとうございました。